YS/T 719-2009 平面磁控溅射靶材 光学薄膜用硅靶
作者:标准资料网 时间:2024-05-13 19:35:30 浏览:8397
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基本信息
| 标准名称： | 平面磁控溅射靶材 光学薄膜用硅靶 |
| 英文名称： | Flat magneting sputtering target—Silicon target for optical coating |
| 中标分类： | 冶金 >> 有色金属及其合金产品 >> 稀有高熔点金属及其化合物 |
| ICS分类： | 冶金 >> 有色金属产品 >> 其他有色金属产品 |
| 发布部门： | 中华人民共和国工业和信息化部 |
| 发布日期： | 2009-12-04 |
| 实施日期： | 2010-06-01 |
| 首发日期： | |
| 作废日期： | |
| 主管部门： | 全国有色金属标准化技术委员会 |
| 提出单位： | 全国有色金属标准化技术委员会 |
| 归口单位： | 全国有色金属标准化技术委员会 |
| 起草单位： | 利达光电股份有限公司 |
| 起草人： | 李智超、杨太礼、付勇、段玉玲、张向东、赵伦 |
| 出版社： | 中国标准出版社 |
| 出版日期： | 2010-06-01 |
| 页数： | 8页 |
适用范围
本标准规定了平面磁控溅射光学薄膜用硅靶材的要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输、贮存及订货单（或合同）内容。
本标准适用于平面磁控溅射光学薄膜用硅靶材。
前言
没有内容
目录
没有内容
引用标准
下列文件中的条款通过本标准的引用而成为本标准的条款。凡是注日期的引用文件,其随后所有的修改单(不包括勘误的内容)或修订版均不适用于本标准,然而,鼓励根据本标准达成协议的各方研究是否可使用这些文件的最新版本。凡是不注日期的引用文件,其最新版本适用于本标准。
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所属分类： 冶金 有色金属及其合金产品 稀有高熔点金属及其化合物 冶金 有色金属产品 其他有色金属产品
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